济南某半导存储芯片制作业厂，晶圆工作进程中所产生含硅、氟的特种废水处理方案处置方案，来设计处置建设规模1200吨/日。废水处理方案处置方案营养成分繁复，所含奈米级硅粒状及氢氧化钠，以往处置方案易于符合标准。 焦化废水成分表及特征 最主要的污染源物 ：电解质溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 主要来源生产工序 ：晶圆刻蚀生活污水（45%）、CMP化学上机械系统制造磨光生活污水（40%）、系统清扫冲洗水（15%） 加工制作工艺方案 自主创新利用"化学反应沉积+持种膜拆分"系统的路线： 钙盐积累 ：添加氯化钙弄掉氟阳离子（提取CaF2沉垫） 斜管沉淀池反馈 ：结合水解酸化池剂确保胶体溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜挪作他用微细粒状 反浸入系统的 ：脱盐率>98%，收回率75% 蒸发器心得 ：浓水段保持氟化物零产生 结果体验 氟化物浓度值：<8mg/L（高出中国1阶段规范10mg/L） 硅含锌量：<5mg/L 水的资源工业废水处理率：70%广泛用于放凉塔补充水分 垃圾缩减：蒸发掉残余物量较传统艺术技艺缩减60%